半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。 清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。因此选择一款清洗效果好的清洗剂十分重要。

沈阳蓝鲸体育推出一款HB2000-715单晶硅片清洗剂，适用于清洗硅片切割悬浮液、硅片碾磨液、动物油、植物油、矿物油等污垢，对硅片表层污垢具有较好乳化、分散及洗净作用,且使硅片使用寿命长，适合切片后硅片清洗、硅片研磨后清洗。